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芯片历史的4次拐点,一部后发者崛起史

明势、取道、优术,事可成。从近几十年的沉浮故事来看,“势”便是行业发展的客观规律。

最重要的事不会成为新闻。

它们发生时往往无声、微小,而新闻不过是“重大事件”经历了漫长蛰伏后的爆发时刻。

对全球半导体产业来说,上世纪70年代,就是一个“悄然无声”的变革开端。

1973年,第四次中东战争打响,石油危机爆发,全球经济放缓,美国工业生产下滑了14%。

彼时的欧美,自由市场经济重获主导,哈耶克主义开始盛行,美国各半导体公司盈利受损,受市场所限,放缓了对新技术的投资。

而同样经济受挫的日本,却开启了一场逆势反超。

如今,日本人总爱把“古き良き時代”(逝去的美好时代)一词挂在嘴边。当他们说起这个词时,脑海中有一幅共同回忆:二战后至上世纪80年代末泡沫经济破灭前的昭和后半期。

在那段痛并快乐着的岁月,日本人有强烈的目标感:他们亟需一场战后废土中的复兴。外部条件也相对有利:1950年朝 鲜战争爆发后,美国开始扶持日本,日本陆续以低价引进了美国最新的晶体管和集成电路技术,打下了日后发起冲刺的基础。

到70年代,日本已建立了“官、学、研”一体化的产业发展制度,采取了闷声追赶的“举国模式”。

日本要举国重点攻克的领域,正是半导体。

1974年,石油危机后的第二年,日本政府就批准了“VLSI(超大规模集成电路)计划”,并在1976年联合日立、NEC、富士通、三菱、东芝五大公司筹集720亿日元(2.36亿美元),设立“VLSI技术研究所”,开启了一场蔚为壮观的、针对DARM存储器(动态随机存取存储器,目前最常见的系统内存)的大攻坚。

昭和一代的日本名企展现出了空前的团结,攻坚体系由6大实验室组成:

日立(第一研究室)负责研制电子束扫描装置和微缩投影紫外线曝光装置;

富士通(第二研究室)负责研制可变尺寸矩形电子束扫描装置;

东芝(第三研究室)负责研制EB扫描装置与制版复印装置;

电气综合研究所(第四研究室)负责对硅晶体材料进行研究;

三菱电机(第五研究室)负责开发制程技术与投影曝光装置;

NEC(第六研究室)负责进行产品封装设计、测试、评估研究。

对一些关键技术难点,日本各公司像《流浪地球》里对地球发动机的饱和式救援一样,开启了“饱和式攻坚”:多个实验室群起而上,以各单位的竞争保证研发成功率。

VLSI成果惊人,计划开启第4年(1980),在惠普对16K DRAM内存的竞标中,日本的NEC、日立和富士通完胜美国的英特尔、德州仪器和莫斯泰克(当时美国存储器领域最主要的玩家),美国质量最好的DRAM的不合格率比日本最差的公司还高6倍。

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